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CRF-真空plasma設(shè)備提升處理效果全面解析

CRF-真空plasma設(shè)備提升處理效果全面解析：? ? ? ?近些年，由于科技進步的飛速發(fā)展，真空plasma設(shè)備的應(yīng)用變得更加廣泛性，適合于材料表面活化改性，提升粘合粘合力等，牽涉到汽車、半導體、航...
發(fā)布時間:2022-12-18
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CRF等離子清洗設(shè)備改性聚物陶瓷、金屬玻璃和類鉆材料

CRF等離子清洗設(shè)備改性聚物陶瓷、金屬玻璃和類鉆材料：等離子體加工為織物單面或雙面獲得創(chuàng)新整理功能提供可能。適宜的等離子清洗設(shè)備構(gòu)型可用于處理單件服裝或鞋子，從而為品牌和市場營...
發(fā)布時間:2022-12-14
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CRF等離子體清潔機sop操作流程介紹

CRF等離子體清潔機sop操作流程介紹： CRF等離子體清潔機能通過調(diào)整原材料的表面來增強表面能量，粘接，印刷和潤濕。并且還可以提供等離子體的防水涂層產(chǎn)品。實際上，絕大多數(shù)的材料都能夠...
發(fā)布時間:2022-12-12
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從環(huán)保和成本來講，plasma設(shè)備更貼近工業(yè)上對涂層、粘結(jié)等清洗要求

從環(huán)保和成本來講，plasma設(shè)備更貼近工業(yè)上對涂層、粘結(jié)等清洗要求：在材質(zhì)的表面處理過程中，plasma設(shè)備主要有以下基本要素：明顯增強黏附性，并產(chǎn)生活性表面；清潔灰塵和油污，精細清...
發(fā)布時間:2022-12-08
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常壓等離子清洗設(shè)備增加活性從原理上分析其特征

常壓等離子清洗設(shè)備增加活性從原理上分析其特征： crf常壓等離子清洗設(shè)備表面處理設(shè)備，即單電極電源，在低溫等離子體中產(chǎn)生低溫等離子體，其離子和電子可達7-10eV，可處理各種聚合物材...
發(fā)布時間:2022-12-07
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