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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

大氣等離子清洗機(jī)制取納米粉有許多其他方法所不具備的優(yōu)點(diǎn)

大氣等離子清洗機(jī)制取納米粉有許多其他方法所不具備的優(yōu)點(diǎn):
       氧化鉍是1種很重要的功能粉狀材質(zhì),在無(wú)機(jī)生成、電子陶瓷、實(shí)驗(yàn)試劑等層面有著普遍的應(yīng)用。適用于生產(chǎn)制造壓電陶瓷片、壓敏電阻等電子陶瓷元件。除有著一般粒度的氧化鉍粉體外,鑒于納米氧化鉍粉狀粒徑較小,所以也可以應(yīng)用于對(duì)粒度有特殊要求的場(chǎng)合,例如電子材料、超導(dǎo)材料、特殊功能陶瓷材料、陰極管內(nèi)壁涂層等。
       因此,對(duì)納米Bi:O3制取方法和應(yīng)用的探索引起了國(guó)內(nèi)外研究人員的普遍興趣。制取納米Bi20的方法大致包括固相反應(yīng)法、沉淀法、噴霧燃燒法、溶膠凝膠法等。這些方法取得了良好的效果,但仍然存在一些局限性:噴霧燃燒法制取的納米氧化鉍粒徑不均勻,對(duì)設(shè)備要求高;化學(xué)法生產(chǎn)的納米氧化鉍易于團(tuán)聚。鑒于生產(chǎn)過(guò)程中使用堿液,不可避免地會(huì)帶入堿金屬或堿土金屬離子,影響氧化鉍的純度。

大氣等離子清洗機(jī)

       大氣等離子體清洗機(jī)等離子體有著較大的化學(xué)活化。它是1種處于電離狀態(tài)的氣體物質(zhì),是氣相的化學(xué)反應(yīng)。等離子體是由純氣體電離產(chǎn)生的,有助于制取超純粉狀。鑒于大氣等離子體清洗機(jī)等離子體溫度梯度高,易于得到高對(duì)比度、快速淬火和高純納米粉狀。與液相法相比,氣相法制取的粉狀產(chǎn)品一般純度高,表面清潔,結(jié)晶組織好,環(huán)境污染少。因此,氣相法更有助于制取鉍納米粉。
       用大氣等離子體清洗機(jī)等離子體法制取納米粉有許多其他方法所不具備的優(yōu)點(diǎn)。等離子體是熱源,以普通微米級(jí)納米氧化鉍粉為原料,通過(guò)選擇合適的功率和加料量,成功制取出中粒徑17.5nm、比表面積47.73m/g的正方晶體納米Bizo3粉狀;制取的納米氧化鉍純度高,結(jié)晶組織好。

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