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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

誠(chéng)峰線性等離子體表面處理機(jī)用于材料表面難粘結(jié)的解決方法

誠(chéng)峰線性等離子體表面處理機(jī)用于材料表面難粘結(jié)的解決方法:
       在誠(chéng)峰線型等離子體表面處理機(jī)中,典型的應(yīng)用是氣體在高能放電過(guò)程中產(chǎn)生等離子體:氣體分解為電子、離子、高活性自由基、短波紫外光子和其它被激發(fā)粒子。在高能放電刺激下,這些物質(zhì)有效地擦洗要清洗的表面。如果腔內(nèi)含有一定量的活性氣體,例如氧氣,就會(huì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng),加上機(jī)械轟擊技術(shù),這樣就能除去有機(jī)物和殘留。將被清洗表面的烴類污染物與等離子體中的氧離子反應(yīng),生成CO2和一氧化碳,這些污染物只是從氣室中抽出來(lái)。

等離子體表面處理機(jī)

       一些不活潑的氣體,如氬、氦氣、氮?dú)?,可以用?lái)轟擊表面,機(jī)械地除去少量物質(zhì)。誠(chéng)峰線型等離子體表面處理機(jī)對(duì)表面進(jìn)行處理,其作用作用可達(dá)到數(shù)微米,但在一般情況下遠(yuǎn)低于0.01微米,而等離子體不會(huì)改變材料的總體性質(zhì)。
       誠(chéng)峰線型等離子體表面處理機(jī)的操作流程:人工將產(chǎn)品不停地放入流水線,持續(xù)傳送、直噴式槍或自動(dòng)旋轉(zhuǎn)噴槍持續(xù)運(yùn)行,清洗產(chǎn)品表面,清潔一件產(chǎn)品大約需要12s(不同的產(chǎn)品加工時(shí)間有些5s就可以),(清洗速度可以根據(jù)流水線速度來(lái)調(diào)整,管道速度越快效率越高)二次清洗風(fēng)槍,故清洗一臺(tái)產(chǎn)品僅需6s,提高效率,清洗完畢后自動(dòng)排出,手工取出產(chǎn)品。

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誠(chéng)峰智造——專注等離子研發(fā)20年