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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

等離子體處理機(jī)能清洗什么,有什么優(yōu)點(diǎn)!

       等離子體處理機(jī)關(guān)鍵用作物件表層清洗、刻蝕、等離子噴涂等表面處理。噴嘴的處理寬度約為8-12mm。當(dāng)然,每次采用時(shí)都要提前檢測(cè)清洗寬度(如接觸角測(cè)量)。采用純氧氣(O2)或氮?dú)?N2)時(shí),處理寬度略為增多。

 等離子體處理機(jī)

等離子體處理機(jī)與其點(diǎn)與別的處理方式相較:
1.等離子體處理機(jī)環(huán)保技術(shù):等離子體法為氣固相干反應(yīng),不耗費(fèi)水資源,不增多化學(xué)物質(zhì),對(duì)環(huán)境無(wú)污染。
2.等離子體處理機(jī)的適用性:處理過(guò)程中不分被處理對(duì)象的基材類型,如金屬、半導(dǎo)體和大多數(shù)高分子化合物。
3.等離子體處理器溫度低:接近常溫,特別適用于高分子化合物原材料,比電暈、火焰法保存時(shí)間長(zhǎng),表面張力高。
4.等離子體處理機(jī)功能強(qiáng):只涉及到高分子化合物原材料的淺表層,可給予其一種或多種功能,保持原材料本身的特性,不損害物件的表層性能;
5.等離子體處理機(jī)成本低:設(shè)備簡(jiǎn)單,操作維護(hù)方便,可連續(xù)運(yùn)行。幾瓶氣經(jīng)常可以代替幾千公斤的清洗液,所以清洗效果比濕法小很多。等離子體工藝的運(yùn)行成本極低,不需要大量的原材料耗費(fèi),節(jié)能。
6.全過(guò)程全自動(dòng)化工藝:所有參數(shù)均可通過(guò)計(jì)算機(jī)設(shè)置和數(shù)據(jù)記錄進(jìn)行質(zhì)量控制,可獲得高效生產(chǎn),可靠性強(qiáng)。
7.工件的幾何的尺寸是無(wú)限的:大或小、簡(jiǎn)單或復(fù)雜的零件或紡織品。例如,等離子對(duì)零件、芯片紡織品、紡織品、軟管、空腔、pcb電路板等不會(huì)受到產(chǎn)品幾何的形態(tài)的限定。

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