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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專(zhuān)注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

UV紫外線光解和真空等離子清洗機(jī)技術(shù)的區(qū)別分析

       UV紫外外光分析和真空等離子清洗機(jī)技術(shù)是有機(jī)廢氣處理中常用的2種方法。兩者均可將廢氣中的有機(jī)成分分解成無(wú)害的水和CO2,從而防止二次污染。但兩者,各有利弊。
       紫外光解是一種雙光譜特性,使用特殊的低壓紫外燈同時(shí)發(fā)射185納米和254納米紫外線。發(fā)射的185nm紫外光,能夠在空氣中觸發(fā)02(氧),并轉(zhuǎn)化成03(臭氧)。臭氧層具有很強(qiáng)的氧化能力,與廢氣中的烴(如苯、烴、醇、脂等)充分混合接觸。),在燈管發(fā)出254納米紫外線的催化條件下,可直接氧化分解H2O和CO2??梢?jiàn),由紫外燈管發(fā)出的185nm紫外光可以當(dāng)做氧化劑;而燈管發(fā)射的254nm紫外線,則可以當(dāng)做必要的條件使光解反應(yīng)得以順利進(jìn)行。然而,紫外線燈管產(chǎn)生臭氧層的能力很低。例如,最常用的臭氧紫外線燈管是150WU形。當(dāng)氧氣充足時(shí),每小量只有6毫克/瓦。在光解反應(yīng)中,臭氧是一種關(guān)鍵的反應(yīng)物質(zhì),其產(chǎn)生量的多少直接影響到處理效果。等離子體技術(shù)是利用高壓電場(chǎng),使空氣中的02電離產(chǎn)生03,其臭氧產(chǎn)生效率比紫外燈要高很多。本實(shí)用新型采用激發(fā)式真空等離子清洗機(jī)作為清洗設(shè)備,能合理地防止被清洗物對(duì)二次污染。本機(jī)裝置配有真空泵,在保持真空設(shè)備內(nèi)腔真空的條件下,能夠快速、徹底地清除真空等離子體中反應(yīng)的污染物,能夠在短時(shí)間內(nèi)迅速、徹底地去除污染物。

真空等離子清洗機(jī)

       所以,我們把這2種處理方法結(jié)合起來(lái)。在光解設(shè)備的前部安裝了真空等離子清洗機(jī),真空等離子清洗機(jī)產(chǎn)生的03與有機(jī)廢氣混合,通過(guò)紫外線燈管流動(dòng)。紫外光管可進(jìn)一步激發(fā)03的產(chǎn)生,同時(shí)在254nm紫外光的催化作用下,03與有機(jī)物的反應(yīng)效率大大提高,從而獲得了理想的處理效果。因?yàn)殡姖{燈比紫外燈管具有更高的臭氧產(chǎn)生效能,使設(shè)備的耗能隨之降低,節(jié)能效果顯著。目前常用的等離子技術(shù)有非真空和真空2種類(lèi)型。直立式和蜂窩式兩種真空等離子清洗機(jī),它們需要的額定電壓非常高,約1.5~18000伏,因此對(duì)系統(tǒng)的絕緣要求非常高。使用過(guò)程中產(chǎn)生的電弧較大,且直接與空氣接觸,用于處理易燃?xì)怏wI藝時(shí),存在很大的火災(zāi)隱患。
目前的真空等離子清洗機(jī)均采取軟玻璃制造,具有以下優(yōu)點(diǎn):
1、所需額定電壓大幅度降低,約2-3千伏,從而大大降低了系統(tǒng)絕緣要求,同時(shí)減少了由高壓電火花引發(fā)易燃?xì)怏w的可能性;
2、所產(chǎn)生的電弧大部分是封閉在真空管道內(nèi),更使火災(zāi)發(fā)生的可能性大大降低。但是軟料玻璃的缺點(diǎn)是,在工作環(huán)境溫度變化較大的情況下,很容易出現(xiàn)裂紋,而真空狀態(tài)被破壞,不能繼續(xù)工作。它的穩(wěn)定性很差,使用壽命短,限制了其在生產(chǎn)中的實(shí)際應(yīng)用。
       CRF真空等離子清洗機(jī)方案設(shè)計(jì)合理合理,需要不同材料的配合。防靜電托架可避免靜電對(duì)產(chǎn)品造成的影響。等真空等離子清洗機(jī)可以在等離子轟擊或發(fā)生化學(xué)反應(yīng)的基礎(chǔ)上對(duì)產(chǎn)品表面進(jìn)行離子注入、活化和清潔。在面層上進(jìn)行粘接,可以顯著提高粘接強(qiáng)度。


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