真空等離子清洗機廣泛應用于清洗、刻蝕、等離子噴涂、等離子噴涂、表面修飾等領域。經處理后，可增強材料表面的潤濕性，使多種材料可對其進行涂覆等運作，增強粘合力、粘合力，與此同時除去有機污漬、油漬或油污。真空等離子清洗機通過憑借以上活性部分的性質對供試品表面對其進行處理，從而達到清潔等目的。本產品可用于清洗、腐蝕、激活、表面處理等。同固體、液體、氣體一樣，等離子體是物質的一種狀態(tài)，也稱為物質的第四態(tài)。施加足夠的能量，使其離化，即為等離子態(tài)。電漿的“活性”部分包括：離子、電子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子體表面處理機憑借以上活性部分對供試品對其進行表面處理，達到清洗、改性、雕刻等目的。
該真空等離子清洗機的構造主要是由三大部分構成，對應為控制模塊、真空腔和真空泵。

1.控制部件。
國產真空等離子清洗機，有國外進口，控制模塊主要是分為半自動控制、全自動控制、PC電腦控制、液晶觸摸屏四種。它的控制器分為兩大部分：
1)主機電源部分：有3個處理器主頻，對應為40KHz、13.56兆赫茲、2.45GHz，這當中13.56兆赫茲需要主機電源匹配器。
2)系統(tǒng)控制部分：分三類，按鈕控制(半自動、全自動)，電腦控制、PLC(LCD觸摸屏控制)
2.真空腔。
真空室主要是分為兩種材料：
不銹鋼真空腔。
2)石英腔。
3.真空泵。
真空泵分為兩類：
1)干燥泵。
2）油泵。
       真空等離子清洗機/蝕刻機的制造設備設置2個金屬電極，使封閉器皿中的2個金屬電極產生電磁場，用真空泵使氣體的真空度變薄，分子間距及分子或離子的自由運動距離變長，從而產生等離子體，這些離子的活性很高，能量會破壞大部分化學鍵，在暴露的任何表面都會引起化學反應，不同氣體的等離子體具有高的化學性質，如氧等離子體具有高的氧化性，能使等離子體產生較好的清潔作用，具有較好的各向異性，能滿足腐蝕標準。用等離子處理時產生的發(fā)光現象稱為輝光放電處理。
      近年來社會經濟的快速發(fā)展和群眾生活水平的增強，對生活必需品品質的標準愈來愈高，等離子體技術也進入了生活必需品制造業(yè)；此外，近年來科學技術的不斷快速發(fā)展，各種技術問題的不斷提出，新型材料的層出不窮，愈來愈多的科研院所意識到等離子體技術的重要，并投入大量資金研究其技術，其中等離子體技術起著非常重要的作用。相信真空等離子清洗機技術的應用將會愈來愈廣泛，技術成熟，成本降低，其應用將更加普及。