筆者走訪大多設(shè)備廠商，發(fā)現(xiàn)O2等離子體表層處理設(shè)備是較為常見的一種，這種機器基本上由真空箱、真空泵、高頻電源、電極、氣體輸入系統(tǒng)、工件輸送系統(tǒng)和控制系統(tǒng)組成。真空泵中比較常見的有旋轉(zhuǎn)油泵，高頻電源大多采用13.56兆赫茲電磁波。
        等離子體表面處理裝置是利用等離子體內(nèi)各種高能物質(zhì)的(活)化作用，對粘附在物品表層的臟污開始(全)面的分離和清理。這種危害離子體表面處理設(shè)備去除工件表面的油污是顯而易見的。等離子體對油漬的作用，與使油漬形態(tài)燃燒反應(yīng)相似；但區(qū)別在于它在低溫條件下形態(tài)的燃燒。

        其基本原理:在O2等離子體中的氧原子官能團、激發(fā)性氧分子、電子和紫外線的共同作用下，油分子被氧化成水和二氧化碳分子，從物品表層清理。從上面能夠看出，用等離子體表層處理設(shè)備清理油漬的過程能夠理解為有(機)大分子逐漸降解的過程，形成H2O和CO2等小分子，以氣體的形式清理。氧等離子體的形成過程可以用以下六種反應(yīng)來表示:
1)O2-O2+e(1)
2)O2-2O(2)
3)O2+e-O2+e(3)
4)O2+e-O2+hv+e(4)
5)O2+e-2O+e(5)
6)O2+e-O+O+2e(6)
       首先是氧氣分子在獲得外部能量后變成氧氣陽離子，然后釋放自由電子的過程。其次是氧氣分子在獲得外部能量后分解形成兩個氧原子官能團的過程。然后是氧氣分子在高能量的激發(fā)態(tài)自由電子作用下轉(zhuǎn)變?yōu)榧ぐl(fā)態(tài)；接著激發(fā)態(tài)氧氣分子進一步發(fā)生變化，繼續(xù)是氧氣分子在高能量的激發(fā)態(tài)自由電子作用下發(fā)出光能(紫外線)。激發(fā)態(tài)氧分子分解為兩個氧原子官能團，激發(fā)態(tài)的氧氣分子在被激發(fā)態(tài)自由電子的作用下釋放出光能(紫外線)。五是激發(fā)態(tài)氧氣分子切割成兩個氧原子官能團，即激發(fā)態(tài)氧氣分子官能團，在激發(fā)態(tài)氧氣分子官能團的作用下發(fā)出光能(紫外線)。六是激發(fā)態(tài)氧氣分子切割成兩個氧原子官能團的形成兩個氧原子官能團。其他氣體的等離子體的形成過程也可以用類似的反應(yīng)式來描述。當(dāng)然，實際反應(yīng)比這種反應(yīng)式描述更復(fù)雜。
       等離子體表層處理設(shè)備中的等離子體作為物質(zhì)形態(tài)的第4種物態(tài)，用于表面處理，具有簡單、高(效)、環(huán)保等特點，可廣泛應(yīng)用于各種村料。表層臟污，特別是機械和濕式化學(xué)清洗后仍形態(tài)的殘留物大多數(shù)是有機物。許多溶劑不能(全)面清理的油脂、脫模劑、硅酮。表層殘留這種物質(zhì)會妨礙所有后續(xù)的處理步驟，特別是危害粘接和涂層。這種物質(zhì)大多能夠通過氧等離子體，也可以通過空氣等離子體(全)面清理。利用低溫氧氣等離子體處理不僅可以提高表面親水性，而且還可以提高表面層的導(dǎo)電性和粘結(jié)性能。因此，選擇合適的等離子表層處理設(shè)備處理方法能夠有效促進村料的表層性能，方便人們的生產(chǎn)生活。