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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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等離子體刻蝕技術(shù)在夾層玻璃表面處理的應(yīng)用有哪些

       小編今天講解一下等離子體刻蝕技術(shù)在夾層玻璃表面處理的應(yīng)用有哪些?
       因?yàn)閵A層玻璃表層粗糙結(jié)構(gòu)會(huì)增加其親水性,由于親水性增加,當(dāng)水接觸到夾層玻璃表層時(shí),會(huì)快速在其表層鋪展產(chǎn)生均勻分布的水膜,進(jìn)而具有防霧及易空氣干燥特點(diǎn),與此同時(shí),超親水性特點(diǎn)會(huì)使水容易地介人到污染物質(zhì)與固態(tài)界面間,借助均勻分布水膜的勢(shì)能落下搞定灰塵,進(jìn)而完成利用雨水等條件自動(dòng)除去污染物質(zhì)的效果.眾所周知亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)的制備技術(shù)有很多,例如電子束光刻、光刻、納米球光刻等,然而,光刻技術(shù)是耗時(shí)且昂貴的,進(jìn)而限制了它的廣泛應(yīng)用.如何在低成本和較短時(shí)間內(nèi)完成夾層玻璃表層亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)的制備,并應(yīng)用于實(shí)際生產(chǎn)中依然是目前研究的重點(diǎn)和難點(diǎn)。

等離子體刻蝕

       故而,文中選用電子器件回旋共震等離子體刻蝕方法在夾層玻璃表層制備亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu),并探討等離子體刻蝕提高太陽(yáng)能玻璃透過(guò)率和潤(rùn)濕性能的機(jī)理,為在太陽(yáng)能電池上的應(yīng)用提供科學(xué)論證.刻蝕后夾層玻璃透過(guò)率提高是由于經(jīng)過(guò)ECR等離子體刻蝕后,在夾層玻璃表層產(chǎn)生了一種小于可見(jiàn)光波長(zhǎng)的凹凸不平的納米結(jié)構(gòu),即亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu),這種結(jié)構(gòu)在空氣與夾層玻璃之間發(fā)揮緩沖的作用,完成折射系數(shù)的梯度漸變,進(jìn)而消除折射率突然改變的界面,進(jìn)而達(dá)到減反射增透的效果。
       然而,當(dāng)光線經(jīng)過(guò)原始夾層玻璃表層時(shí),折射率突變會(huì)造成大量反射,進(jìn)而原始夾層玻璃透過(guò)率較低.有偏壓等離子體刻蝕比無(wú)偏壓刻蝕產(chǎn)生的結(jié)構(gòu)尺寸較小且分布較密,對(duì)可見(jiàn)光的反射較少。另外,此減反射結(jié)構(gòu)與傳統(tǒng)的基于光學(xué)薄膜和基底結(jié)合的涂層減反射結(jié)構(gòu)不同,它是直接在夾層玻璃基底,上制備出的微結(jié)構(gòu),故而避免了減反射涂層附著力、熱穩(wěn)定性差以及難以實(shí)現(xiàn)寬波段減反射等問(wèn)題.
       等離子體刻蝕表層的夾層玻璃表層潤(rùn)濕性變化,測(cè)試結(jié)果顯示刻蝕前潤(rùn)濕角為47.2°,刻蝕后潤(rùn)濕角變?yōu)?.4°,潤(rùn)濕性能顯著提高,刻蝕產(chǎn)生的多山峰納米結(jié)構(gòu)使得夾層玻璃表面能增加,表層的親水性特點(diǎn)增強(qiáng),獲得超親水玻璃表層.由于親水性能的提高,水與夾層玻璃表層間的親和力增強(qiáng),當(dāng)水接觸到夾層玻璃表層時(shí),會(huì)快速在其表層鋪展產(chǎn)生均勻分布的水膜,防止小水滴的產(chǎn)生,具有防霧特點(diǎn),對(duì)透過(guò)率的影響大為減小.與此同時(shí),超親水性特點(diǎn)會(huì)使水容易地參與到污染物質(zhì)與固態(tài)界面間,借助均勻分布水膜的勢(shì)能落下搞定污垢,該方法能夠除去絕大多數(shù)污垢,進(jìn)而完成利用雨水等條件自動(dòng)除去污染物質(zhì)的效果.

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