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CRF plasma 等離子清洗機

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20年專注等離子清洗機研發(fā)生產(chǎn)廠家

便攜式等離子清洗系統(tǒng)-等離子清洗系統(tǒng)清洗技術(shù)分類有哪些

       近年來雖然很多企業(yè)都在使用等離子清洗系統(tǒng),但是卻很少人知道等離子等離子清洗系統(tǒng)其他的用途是哪些?清洗技術(shù)分類又包含哪些,這里小編就來詳細(xì)介紹一下這種便攜式等離子清洗系統(tǒng),它包括主框架、連接主框架的背板和設(shè)置在主框架上的外保護(hù)外殼。主框架包括反應(yīng)腔、設(shè)置在反應(yīng)腔一側(cè)的調(diào)諧網(wǎng)絡(luò)、電路系統(tǒng)、控制單元和控制主板。反應(yīng)腔和調(diào)諧網(wǎng)絡(luò)位于主框架的上部,電路系統(tǒng)位于主框架的下部,控制單元和控制主板位于主框架的下部和電路系統(tǒng)的背部。它是一種設(shè)計緊湊、占地面積小、功能全、成本低的便攜式等離子清洗系統(tǒng)。同時(降)低了等離子清洗系統(tǒng)的使用門檻,為更多行業(yè)和科研機構(gòu)的技術(shù)研發(fā)創(chuàng)造了便捷條件。
       等離子體清洗系統(tǒng)的清洗技術(shù)分為幾類?等離子體主要是經(jīng)過氣體電離行成的,包括電子、離子體、自由基、紫外線等高能物質(zhì),具有(激)活產(chǎn)品表面的功能。接下來,CRF將與您分享:

等離子清洗系統(tǒng)

       根據(jù)反應(yīng)類型的不同,等離子清洗系統(tǒng)的清洗技術(shù)可以分為兩類:等離子體物理清洗,即利用活性顆粒和高能射線轟擊將污染物分離;等離子體化學(xué)清洗,即經(jīng)過活性顆粒與雜質(zhì)分子的反應(yīng)使污染物揮發(fā)和分離。
(1)激起頻率對等離子體的清洗類型有一定影響
例如:超聲波等離子體(激起頻率,40kHz)的反應(yīng)大多數(shù)是物理反應(yīng);微波等離子體(激起頻率,2.45GHz)的反應(yīng)大多數(shù)是化學(xué)反應(yīng);射頻等離子體(激起頻率,13.56MHz)涉及物理化學(xué)雙重反應(yīng)類型。

等離子清洗系統(tǒng)

(2)工作氣體的類型也影響等離子體的清潔類型
例如:Ar2、N2等行成的等離子體常見應(yīng)用物理清洗,產(chǎn)品表面經(jīng)過轟擊清洗;反應(yīng)性氣體O2、H2等行成的等離子體常見應(yīng)用化學(xué)清洗,活性自由基與污染物(大多數(shù)是碳?xì)浠衔?發(fā)生化學(xué)反應(yīng),行成一氧化碳、二氧化碳、水等小分子,從產(chǎn)品表面去除。
(3)等離子清洗系統(tǒng)的清洗方式會影響清洗(效)果
例如:等離子體物理清洗能使產(chǎn)品表面粗糙度增大,并能提高產(chǎn)品表面的附著力;等離子體化學(xué)清洗能顯著增強產(chǎn)品表面氧、氮等活性基團(tuán),能夠提高產(chǎn)品表面的潤濕性。
      以上相關(guān)內(nèi)容已將等離子清洗系統(tǒng)清洗技術(shù)分為幾類比較清楚,如有不懂的伙伴,歡迎隨時登陸深圳誠峰智造網(wǎng)站了解等離子清洗技術(shù)分為幾類知識共享。


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