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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

真空電漿清洗機(jī)真空腔里材料的反應(yīng)機(jī)理和里面的結(jié)構(gòu)

真空電漿清洗機(jī)真空腔里材料的反應(yīng)機(jī)理和里面的結(jié)構(gòu):
      真空電漿清洗機(jī)其核心原理是:清洗試樣表面,并對(duì)試品進(jìn)行表面活化處理,增加樣品的親水性;即使等離子體是一門新興學(xué)科,但它已被廣泛應(yīng)用于科研的各行各業(yè),涵蓋材料學(xué)、光學(xué)、電子、醫(yī)學(xué)、環(huán)境生物學(xué)等各行各業(yè),主要運(yùn)用于以下實(shí)驗(yàn):
1:探討材質(zhì)、表面改性、親水作用、黏結(jié)和枝接實(shí)驗(yàn);
2:材料研究,用于原材料表面改性,達(dá)到疏水效果,俗稱荷葉效應(yīng)。

      真空電漿清洗機(jī)的關(guān)鍵是plasma中活性顆粒的原理“激活作用”除去物體表面污垢。腔內(nèi)設(shè)置兩個(gè)電極生成電場(chǎng),用真空腔提取相應(yīng)的真空值。隨著氣體越來(lái)越薄,分子之間的距離越來(lái)越遠(yuǎn),分子或離子之間的自由運(yùn)動(dòng)距離越來(lái)越大。在電場(chǎng)的作用下,它們之間的碰撞產(chǎn)生等離子體,等離子體的活性越來(lái)越高。它的能量會(huì)破壞幾乎所有的化學(xué)鍵,并在任何暴露的表面引起反應(yīng)。O2等離子體氧化性高,能氧化光刻膠反應(yīng)產(chǎn)生的氣體,達(dá)到清洗效果;蝕刻氣等離子體具有良好的各向異性,能滿足蝕刻的需要。采用真空電漿清洗機(jī)處理技術(shù)的真空等離子清洗設(shè)備,會(huì)產(chǎn)生輝光,因此稱為輝光放電處理。
真空電漿清洗機(jī)清洗樣品的表面,并對(duì)其進(jìn)行表面活化處理,通過(guò)加入特殊氣體及處理工藝,可使試品達(dá)到親水、疏水效果。
下面講解下真空電漿清洗機(jī)它的主要結(jié)構(gòu)功能:
1、引進(jìn)America霍尼韋爾真空壓力傳感器,使機(jī)器具有可靠的基礎(chǔ),實(shí)現(xiàn)對(duì)機(jī)器的智能控制;
2、采用艙體,管道,閥體均采用不銹鋼材料,稱為全防腐型;
3、本儀器實(shí)現(xiàn)了手動(dòng)、自動(dòng)兩種工作模式任意切換;
4、本裝置實(shí)現(xiàn)了程序化設(shè)計(jì),程序預(yù)先編輯好,儀器就能自動(dòng)完成實(shí)驗(yàn);
5、不需任何消耗品,使用成本低,多氣路可單獨(dú)控制;
6、不需特別保養(yǎng),在日常使用中可使儀器保持清潔;
7、有3種自動(dòng)模式供用戶選擇,并可同時(shí)進(jìn)行手動(dòng)操作。


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