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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

在晶片加工預(yù)處理中,crf電漿清洗機(jī)的應(yīng)用

在晶片加工預(yù)處理中,crf電漿清洗機(jī)的應(yīng)用:
       晶片連接線的連接品質(zhì)是影響設(shè)備可靠性的重要因素。連接線連接區(qū)應(yīng)保證零污染,連接效果明顯。氧化物、有機(jī)殘留物等污染物的存在會嚴(yán)重削弱連接線連接的拉力值。傳統(tǒng)意義上的濕法清洗不徹底或無法去除鍵合區(qū)的污染物,而電漿清洗機(jī)的清洗能夠有效去除鍵合區(qū)的表面污垢,激活其表面,能夠大幅提升連接線的粘結(jié)強(qiáng)度,進(jìn)一步提高封裝設(shè)備的可靠性。

電漿清洗機(jī)

       在粘合環(huán)節(jié)中,晶片與封裝基板之間往往存在一定粘合性,通常表現(xiàn)為疏水性和惰性,粘合性能差,粘合界面容易產(chǎn)生縫隙,給晶片帶來很大的隱患。晶片與封裝基板的水泥清洗機(jī)處理后,能夠有效提高晶片的表面活性,進(jìn)一步提高晶片與封裝基板表面的環(huán)氧樹脂粘合流動性,增加晶片與封裝基板的粘合滲透性,減少晶片與基板的分層,增加晶片封裝的可靠性和穩(wěn)定性,延長產(chǎn)品的使用壽命。用電漿清洗機(jī)對清洗機(jī)生產(chǎn)的輝光等離子體進(jìn)行處理,能夠有效去除經(jīng)過處理的材料表面原有的污染物和雜質(zhì),產(chǎn)生蝕刻效果,使樣品表面粗糙,產(chǎn)生許多細(xì)小的凹坑,增加接觸面積,提高表面的潤濕性(俗話說,增強(qiáng)表面的附著力,增強(qiáng)親水性)。電漿清洗機(jī)應(yīng)用廣泛,可解決粘結(jié)、印刷、噴涂、靜電去除等技術(shù)問題,達(dá)到現(xiàn)代制造技術(shù)追求的高質(zhì)量、高可靠性、高效率、低成本、環(huán)保的目標(biāo)。
        許多工廠的操作人員,在使用電漿清洗機(jī)時(shí),總是要咨詢廠家,這個(gè)設(shè)備的操作注意事項(xiàng)?

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