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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

O2和N2通入CRF誠峰電漿清洗機(jī)的哪種應(yīng)用效果好

O2和N2通入CRF誠峰電漿清洗機(jī)的哪種應(yīng)用效果好:
       同樣條件下,O2電漿清洗機(jī)處理比N2處理效果更好。另外需要蝕刻,以和清除污垢,浮渣,表面處理,等離子聚合,電漿灰化或任何其它蝕刻應(yīng)用,如果客戶是非標(biāo)產(chǎn)品需要定制,我司也可以按需設(shè)計和做出符合客戶要求的設(shè)備。我公司兼具傳統(tǒng)的電漿清洗機(jī)系統(tǒng)和反應(yīng)型離子型蝕刻系統(tǒng),可以生產(chǎn)系列產(chǎn)品,也可以為客戶定制專用系統(tǒng)。我們可以提供快速/高質(zhì)量蝕刻,提供所需的均勻度。

電漿清洗機(jī)

      隨著處理時間的拉長,時間的拉長而減小,卻在相應(yīng)期限內(nèi),表面張力幾乎沒有變化。等離子體處理可用于各種基底,復(fù)雜的幾何構(gòu)形也可進(jìn)行等離子體活化,電漿清洗和鍍膜等。低壓等離子體還可以處理熱負(fù)荷和機(jī)械負(fù)荷低的敏感材料。
      上述結(jié)果說明,利用電漿清洗機(jī)處理PTFE粘性較好,需要不斷地調(diào)整各處理參數(shù)以獲得良好的處理工藝,CRF誠峰電漿清洗機(jī)操作簡單,可設(shè)定多個實驗參數(shù),同時也可儲存多種工藝參數(shù),這對探尋工藝參數(shù)很有幫助。
       crf電漿清洗機(jī)技術(shù)的典型應(yīng)用是:半導(dǎo)體/集成電路;氮化鎵;氮化鋁/氮化鎵;砷化鎵/砷化鋁鎵;砷化鎵;磷化銦、鎵/銦鎵化物(Inpingas/Inalas);硅;硅鍺;硅化硅陶瓷(Si3N4);硅溴化氫;硒化鋅(Znse);鋁;鉻;鉑;鉬;

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誠峰智造——專注等離子研發(fā)20年