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常壓等離子處理機(jī)

CRF-APO-RP1020-D

可選配多種類型等離子噴槍和噴嘴，使用于不同場合，滿足各種不同產(chǎn)品和處理環(huán)境；

可ln-Line式安裝于客戶設(shè)備產(chǎn)線中，減少客戶投入成本；

使用壽命長，保養(yǎng)維修成本低，便于客戶成本控制；

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設(shè)備詳細(xì)數(shù)據(jù)

等離子清洗設(shè)備普遍用于等離子清理、蝕刻、表層的鍍膜、等離子灰化對材料表層改性等。經(jīng)等離子處理后，能提升材料表層的濕潤性，使多種多樣材料都能開展涂覆、表層的鍍膜等實(shí)際操作，提高粘結(jié)力和鍵合能力，另外還可以除去有機(jī)化學(xué)污染物、油污和油脂。用等離子體對材料開展表層改性，接枝層會與表層分子結(jié)構(gòu)中間產(chǎn)生化學(xué)鍵，使其具備優(yōu)良的使用性能。

等離子清洗設(shè)備采用高精密的數(shù)控加工技術(shù)，具備高精密的全自動(dòng)清洗機(jī)械裝置，時(shí)間控制度高；等離子體的恰當(dāng)清理不會對其表層造成損害，產(chǎn)品的工藝性能獲得確保；它是一種綠色環(huán)保的清洗加工工藝，不會造成環(huán)境污染，防止了人為失誤的危害，清理表層不會受到二次污染。